가공하지 않은 합성쿼츠 덩어리
반도체 Etching 공정에 들어가는
합성쿼츠 재질의 Focus Ring
반도체 노광 공정에서 ArF(193nm) 광원을 사용하는 포토마스크의 기판 소재로, 미세 회로 패턴 형성에 사용
에스티아이
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